Anordnung zur Modifizierung der Eigenschaften einer Vielzahl von Strahlenbündeln, Lithografische Vorrichtung, Verfahren zur Modifizierung der Eigenschaften einer Vielzahl von Strahlenbündeln und Vorrichtungsherstellungsverfahren

EP2856260 Art A1 8. April 2015

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2856260
Aktenzeichen
EP13720415
Anmeldetag
6. Mai 2013
Veröffentlichung
8. April 2015
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20G02B6/00H01S5/14
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
ASML Netherlands BV
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

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