Halbleiterbauelement und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements

EP2856379 Art B1 12. Oktober 2016

Anmelder: NXP USA, Inc., Freescale Semiconductor, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2856379
Aktenzeichen
EP12877715
Anmeldetag
30. Mai 2012
Veröffentlichung
12. Oktober 2016
Erteilung
12. Oktober 2016
Rechtsraum
EP
IPC
G06F21/57G06F21/72G06F21/62G06F21/71G06F21/79G09C1/00H04L9/08H04N21/426H04N21/4405H04N21/443H04N21/462
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
NXP USA, Inc.
Freescale Semiconductor, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 NXP USA

US-amerikanische Gesellschaft des Halbleiterkonzerns NXP, die Chips und Halbleiterlösungen für Automobiltechnik, Kommunikation und Industrieelektronik entwickelt.

1.545 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen