Schichtsystem
Anmelder: TDK-Micronas GmbH, Micronas GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2857832
- Aktenzeichen
- EP14003405
- Anmeldetag
- 2. Oktober 2014
- Veröffentlichung
- 25. Juli 2018
- Erteilung
- 25. Juli 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N27/414
Abstract
Schichtsystem (10) mit einem Schichtbereich, wobei der Schichtbereich ein monokristallines Siliziumsubstrat (20) mit einer Vorderseite (22) und einer Rückseite (24) aufweist und wobei auf der Vorderseite (22) eine texturierte Oberfläche ausgebildet ist und die texturierte Oberfläche eine Topographie mit unterschiedlichen Höhen aufweist und auf der texturierten Oberfläche eine Dünnfilmschicht (30) aus einem Metalloxid und / oder einer Oxidkeramik ausgebildet ist, wobei die Dünnfilmschicht die texturierte Oberfläche bedeckt. Der Schichtbereich kann insbesondere als gassensitive Steuerelektrode in einen Suspended Gate Field Effect Transistor (SGFET) oder einen Capacitively Controlled Field Effect Transistor (CCFET) integriert sein.
Anmelder
- Firmen
- TDK-Micronas GmbH
Micronas GmbH - Land
- 🇩🇪 Deutschland
Micronas war ein deutsch-schweizerisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Freiburg, das inzwischen zu TDK gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik sowie Nachrichtentechnik und Halbleitertechnik. Die Anmeldungen stammen aus den Jahren 2000 bis 2016.
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