Verfahren zur Herstellung einer Resistzusammensetzung
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2857900
- Aktenzeichen
- EP14003162
- Anmeldetag
- 12. September 2014
- Veröffentlichung
- 30. September 2015
- Erteilung
- 30. September 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/075G03F7/09G03F7/16
Abstract
The present invention provides a method for manufacturing a resist composition which is used in a manufacturing process of a semiconductor apparatus, comprising the steps of: cleaning a manufacturing apparatus for the resist composition with a cleaning solution; analyzing the cleaning solution taken out from the manufacturing apparatus; repeating the step of cleaning and the step of analyzing until a concentration of a nonvolatile component(s) contained in the cleaning solution became 10 ppm or less; and manufacturing the resist composition by using the manufacturing apparatus after the step of repeating. There can be provided a method for manufacturing a resist composition which can manufacture a resist composition lowered in coating defects.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Wuesthoff & Wuesthoff wurde 1927 in Berlin von Dr. Franz und Dr. Freda Wuesthoff gegründet, die erste deutsche Patentanwältin, und zog 1949 nach München. Schwerpunkte liegen in Biotechnologie und Life Sciences, beraten wird auch auf Chinesisch, Koreanisch und Japanisch.