Halbleiterherstellungsverfahren und Glühverfahren

EP2858095 Art A1 8. April 2015

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2858095
Aktenzeichen: EP13796377
Anmeldetag: 19. April 2013
Veröffentlichung: 8. April 2015
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/265H01L21/20H01L21/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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