Verfahren zur Herstellung einer Metalloxidhaltigen Halbleiterschicht und Elektronische Vorrichtung

EP2858099 Art A1 8. April 2015

Anmelder: Mitsubishi Chemical Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2858099
Aktenzeichen: EP13797955
Anmeldetag: 30. Mai 2013
Veröffentlichung: 8. April 2015
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/368H01L21/336H01L29/786H01L51/42

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Chemical Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Das Unternehmen entwickelt Grund- und Spezialchemikalien, Kunststoffe, Materialien für Elektronik und Energiespeicher sowie Pharma- und Life-Science-Produkte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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