Verwendung eines Oberflächengetreuen Elastischen Polsters zur Reduzierung der Siliciumdurchgangspfadbelastung in einer Dreidimensionalen Integration
EP2859585
Art A1
15. April 2015
Anmelder: Rensselaer Polytechnic Institute 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2859585
- Aktenzeichen
- EP13800618
- Anmeldetag
- 6. Juni 2013
- Veröffentlichung
- 15. April 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L23/48H01L21/768H01L25/065H01L25/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Rensselaer Polytechnic Institute
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Rensselaer Polytechnic Institute
Das Rensselaer Polytechnic Institute ist eine private technische Universität mit Sitz in Troy, New York, und eine der ältesten technischen Hochschulen der USA. Das Patentportfolio streut breit über Medizintechnik, Halbleiter und Mess- und Prüftechnik, mit weiteren Anmeldungen in Pharma, Kunststofftechnik und Software. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.
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