Verfahren zur Herstellung von Hochreinem Polykristallinem Silicium
EP2862840
Art B1
25. Januar 2017
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2862840
- Aktenzeichen
- EP13804452
- Anmeldetag
- 13. Juni 2013
- Veröffentlichung
- 25. Januar 2017
- Erteilung
- 25. Januar 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C01B33/03G01N33/00C01B33/035H01L21/02H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.655 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Smaggasgale, Gillian Helen
London, Großbritannien
1.678
Patente gesamt
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Fachgebiete
24
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