Flüssigzusammensetzung zur Reinigung, Verfahren zum Reinigen eines Halbleiterbauelements und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements
EP2863415
Art B1
16. November 2016
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2863415
- Aktenzeichen
- EP13804977
- Anmeldetag
- 6. Juni 2013
- Veröffentlichung
- 16. November 2016
- Erteilung
- 16. November 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/02H01L21/311C11D7/06C11D3/04C11D3/28C11D3/30C11D3/43C11D7/32C11D11/00G03F7/42H01L21/768
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
2.580 Patente in unserer Datenbank