Rohling für Halbton-Phasensprung-Fotomaske, Halbton-Phasensprung-Fotomaske und Musterbelichtungsverfahren
EP2871520
Art B1
12. Juni 2019
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2871520
- Aktenzeichen
- EP14190018
- Anmeldetag
- 23. Oktober 2014
- Veröffentlichung
- 12. Juni 2019
- Erteilung
- 12. Juni 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/00G03F1/26G03F1/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Vertreten von
Merkle, Gebhard
München, Deutschland
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Ter Meer Steinmeister & Partner
Ter Meer Steinmeister & Partner · München