Ätzverfahren und Verfahren zur Herstellung eines Halbleitersubstratprodukts und Halbleiterbauelement damit sowie Kit zur Herstellung einer Ätzflüssigkeit

EP2875520 Art A1 27. Mai 2015

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2875520
Aktenzeichen: EP13819335
Anmeldetag: 17. Juli 2013
Veröffentlichung: 27. Mai 2015
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/3213C09K13/00C09K13/06// H01L21/311

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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