Reinigungsflüssigkeit für Halbleiter und Reinigungsverfahren dafür

EP2876669 Art B1 7. Juli 2021

Anmelder: Nissan Chemical Corporation, Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2876669
Aktenzeichen
EP13820182
Anmeldetag
8. Juli 2013
Veröffentlichung
7. Juli 2021
Erteilung
7. Juli 2021
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/304B08B9/027H01L21/027C11D3/04C11D3/20C11D3/43C11D7/50C11D7/08C11D11/00H01L21/67H01L21/31H01L21/02
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Nissan Chemical Corporation
Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

2.124 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen