Zusammensetzung zum Bilden einer Passivierungsschicht, Halbleitersubstrat mit Passivierungsschicht, Herstellungsverfahren für ein Halbleitersubstrat mit Passivierungsschicht, Solarzellenelement, Herstellungsverfahren für das Solarzellenelement und Solarzelle

EP2876670 Art A1 27. Mai 2015

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd., Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2876670
Aktenzeichen
EP13819813
Anmeldetag
19. Juli 2013
Veröffentlichung
27. Mai 2015
Rechtsraum
EP
IPC
H01L31/0216
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Hitachi Chemical Company, Ltd.
Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

2.257 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen