Zusammensetzung zum Bilden einer Passivierungsschicht, Halbleitersubstrat mit Passivierungsschicht, Herstellungsverfahren für ein Halbleitersubstrat mit Passivierungsschicht, Solarzellenelement, Herstellungsverfahren für das Solarzellenelement und Solarzelle
EP2876670
Art A1
27. Mai 2015
Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd., Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2876670
- Aktenzeichen
- EP13819813
- Anmeldetag
- 19. Juli 2013
- Veröffentlichung
- 27. Mai 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L31/0216
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Hitachi Chemical Company, Ltd.
Hitachi Chemical Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi Chemical
Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München