Zusammensetzung zum Bilden einer Passivierungsschicht, Halbleitersubstrat mit einer Passivierungsschicht, Verfahren zur Herstellung eines Halbleitersubstrats mit Dieser Passivierungsschicht, Element mit Photovoltaischer Zelle und Photovoltaische Zelle
EP2876671
Art B1
22. November 2017
Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2876671
- Aktenzeichen
- EP13820690
- Anmeldetag
- 19. Juli 2013
- Veröffentlichung
- 22. November 2017
- Erteilung
- 22. November 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L31/0216
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi Chemical Company, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi Chemical
Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München