Tantalsputtertarget und Herstellungsverfahren dafür

EP2878699 Art B1 15. Juli 2020

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corp. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2878699
Aktenzeichen
EP13866236
Anmeldetag
6. Dezember 2013
Veröffentlichung
15. Juli 2020
Erteilung
15. Juli 2020
Rechtsraum
EP
IPC
C23C14/34C23C14/14H01L21/285B21B1/22
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
JX Nippon Mining & Metals Corp.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

1.069 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen