Tantalsputtertarget und Herstellungsverfahren dafür
EP2878699
Art B1
15. Juli 2020
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corp. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2878699
- Aktenzeichen
- EP13866236
- Anmeldetag
- 6. Dezember 2013
- Veröffentlichung
- 15. Juli 2020
- Erteilung
- 15. Juli 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34C23C14/14H01L21/285B21B1/22
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corp.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
1.069 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
34
Fachgebiete
27
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Forresters IP LLP
Forresters IP LLP · München