Verfahren zur Züchtung von Siliciumcarbidkristall
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2881498
- Aktenzeichen
- EP14195245
- Anmeldetag
- 27. November 2014
- Veröffentlichung
- 11. März 2020
- Erteilung
- 11. März 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B11/08C30B29/36C30B17/00
Abstract
In the present invention, a crucible formed of SiC as a main component is used as a container for a Si-C solution. The SiC crucible is heated such that, for example, an isothermal line representing a temperature distribution within the crucible draws an inverted convex shape; and Si and C, which are derived from a main component SiC of the crucible, are eluted from a high-temperature surface region of the crucible in contact with the SiC solution, into the Si-C solution, thereby suppressing precipitation of a SiC polycrystal on a surface of the crucible in contact with the Si-C solution. To the Si-C solution of this state, a SiC seed crystal is moved down from the upper portion of the crucible closer to the Si-C solution and brought into contact with the Si-C solution to grow a SiC single crystal on the SiC seed crystal.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Bereits 1873 gegründet, eine der traditionsreichsten britischen Patent- und Markenkanzleien mit Büros in London, Liverpool und Cardiff. Begleitet von der Anmeldung bis zur Verwertung, einschließlich Litigation vor dem Einheitlichen Patentgericht.
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Smaggasgale, Gillian Helen
NoneLondon