Verfahren zur Herstellung einer Fotomaske
EP2881791
Art B1
20. Januar 2016
Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2881791
- Aktenzeichen
- EP15150710
- Anmeldetag
- 13. Mai 2013
- Veröffentlichung
- 20. Januar 2016
- Erteilung
- 20. Januar 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/32G03F1/80G03F1/50G03F1/54
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Vertreten von
Smaggasgale, Gillian Helen
London, Großbritannien
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