Zusammensetzung zur Bildung eines Unterschichtfilms für Siliciumhaltigen Euv-Fotolack mit Oniumsulfonat

EP2881794 Art A1 10. Juni 2015

Anmelder: Nissan Chemical Corporation, Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2881794
Aktenzeichen: EP13825237
Anmeldetag: 29. Juli 2013
Veröffentlichung: 10. Juni 2015
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/11H01L21/027C08K5/42G03F7/004G03F7/075G03F7/09H01L21/3105H01L21/311

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Nissan Chemical Corporation
Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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