Vorrichtung und Verfahren zur Erhaltung von Immersionsflüssigkeit in der Spalte unter einer Projektionslinse während des Wafer-Austauschs in einer Immersionslithografiemaschine
EP2887143
Art B1
2. November 2016
Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2887143
- Aktenzeichen
- EP14200551
- Anmeldetag
- 17. März 2004
- Veröffentlichung
- 2. November 2016
- Erteilung
- 2. November 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03B27/32G03B27/42G03B27/58G03B27/52
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nikon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München