Verfahren zur Herstellung einer Speicherzelle durch Reduzierung der Diffusion von Dotierstoffen unter einem Gate

EP2888759 Art B1 13. November 2019

Anmelder: Silicon Storage Technology Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2888759
Aktenzeichen: EP13831713
Anmeldetag: 29. Juli 2013
Veröffentlichung: 13. November 2019
Erteilung: 13. November 2019
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/336H01L21/28H01L29/423H01L29/66H01L29/788H01L27/115H01L21/265

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Silicon Storage Technology Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Silicon Storage Technology

Silicon Storage Technology ist ein US-amerikanischer Halbleiterhersteller, der auf nichtflüchtige Speichertechnologien spezialisiert ist und zu Microchip Technology gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Datenspeicherung sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt durch Software. Anmeldungen laufen durchgehend seit 2000.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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