Speicherzelle mit Geteiltem Gate und einem Floating Gate-Kanal in einem Abbaumodus und Herstellungsverfahren dafür

EP2888760 Art B1 4. März 2020

Anmelder: Silicon Storage Technology Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2888760
Aktenzeichen
EP13831305
Anmeldetag
29. Juli 2013
Veröffentlichung
4. März 2020
Erteilung
4. März 2020
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/28H01L29/423H01L29/66H01L29/788G11C16/04
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Silicon Storage Technology Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Silicon Storage Technology

Silicon Storage Technology ist ein US-amerikanischer Halbleiterhersteller, der auf nichtflüchtige Speichertechnologien spezialisiert ist und zu Microchip Technology gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Datenspeicherung sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt durch Software. Anmeldungen laufen durchgehend seit 2000.

360 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen