Vorrichtung zum Trennen Zweier Substrate

EP2893555 Art B1 31. März 2021

Anmelder: Soitec 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2893555
Aktenzeichen
EP13783089
Anmeldetag
3. September 2013
Veröffentlichung
31. März 2021
Erteilung
31. März 2021
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/67B26D3/28B26D7/00B26D7/08
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Soitec
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 Soitec

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

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