Monitorsystem zur Bestimmung der Ausrichtungen von Spiegelelementen und Euv-Lithografiesystem

EP2904454 Art B1 15. März 2017

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2904454
Aktenzeichen: EP13774079
Anmeldetag: 7. Oktober 2013
Veröffentlichung: 15. März 2017
Erteilung: 15. März 2017
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G01M11/00G02B26/08G01B11/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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