Optisches EUV-Element mit einer blasenresistenten mehrschichtigen Kappe

EP2905637 Art A1 12. August 2015

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2905637
Aktenzeichen: EP14154265
Anmeldetag: 7. Februar 2014
Veröffentlichung: 12. August 2015
Rechtsraum: EP
IPC: G02B5/08G21K1/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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