Bestimmung der Position eines Substrats in der Lithografie
EP2912521
Art A1
2. September 2015
Anmelder: ASML Netherlands B.V., Mapper Lithography IP B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2912521
- Aktenzeichen
- EP13785411
- Anmeldetag
- 28. Oktober 2013
- Veröffentlichung
- 2. September 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F9/00H01J37/304H01J37/317
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
Mapper Lithography IP B.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Peters, John Antoine
Veldhoven, Niederlande
167
Patente gesamt
11
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte