Verfahren und System zur Waferinspektion in einem Mischmodus
EP2917721
Art A1
16. September 2015
Anmelder: Kla-Tencor Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2917721
- Aktenzeichen
- EP13853814
- Anmeldetag
- 12. November 2013
- Veröffentlichung
- 16. September 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N21/88G06T7/00H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Kla-Tencor Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
1.908 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Keane, Paul Fachtna
Dublin, Irland
492
Patente gesamt
30
Fachgebiete
16
Anmelder-Länder
Schwerpunkte