Integrierte Struktur, die benachbarte MOS-Transistoren umfasst
Anmelder: STMicroelectronics (Rousset) SAS 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2922063
- Aktenzeichen
- EP15159143
- Anmeldetag
- 16. März 2015
- Veröffentlichung
- 5. Mai 2021
- Erteilung
- 5. Mai 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G11C11/412H01L27/11
Abstract
Structure intégrée comprenant une paire de transistors MOS (TR1, TR2) voisins, chaque transistor (TR1, TR2) comportant une région de grille (RG1, RG2) séparée d'un substrat sous-jacent (1) par un premier diélectrique de grille (OX1), une région supplémentaire (RG3), comportant un matériau de grille, séparée des deux régions de grilles (RG1, RG2) par un deuxième diélectrique de grille (OX12), et possédant un élément continu (RG30) situé au-dessus d'une partie des deux régions de grilles et une branche (RG31) solidaire d'une zone de la face inférieure dudit élément et s'étendant entre les et à distance des deux régions de grilles jusqu'au premier diélectrique de grille.
Anmelder
- Firma
- STMicroelectronics (Rousset) SAS
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
Französischer Produktionsstandort des Halbleiterkonzerns STMicroelectronics in Rousset. Der Standort fertigt integrierte Schaltkreise und Halbleiterbauelemente für Automobil-, Industrie- und Konsumelektronik.
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