Integrierte Struktur, die benachbarte MOS-Transistoren umfasst

EP2922063 Art B1 5. Mai 2021

Anmelder: STMicroelectronics (Rousset) SAS 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2922063
Aktenzeichen
EP15159143
Anmeldetag
16. März 2015
Veröffentlichung
5. Mai 2021
Erteilung
5. Mai 2021
Rechtsraum
EP
IPC
G11C11/412H01L27/11
Offizieller Volltext

Abstract

Structure intégrée comprenant une paire de transistors MOS (TR1, TR2) voisins, chaque transistor (TR1, TR2) comportant une région de grille (RG1, RG2) séparée d'un substrat sous-jacent (1) par un premier diélectrique de grille (OX1), une région supplémentaire (RG3), comportant un matériau de grille, séparée des deux régions de grilles (RG1, RG2) par un deuxième diélectrique de grille (OX12), et possédant un élément continu (RG30) situé au-dessus d'une partie des deux régions de grilles et une branche (RG31) solidaire d'une zone de la face inférieure dudit élément et s'étendant entre les et à distance des deux régions de grilles jusqu'au premier diélectrique de grille.

Anmelder

Firma
STMicroelectronics (Rousset) SAS
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 STMicroelectronics (Rousset)

Französischer Produktionsstandort des Halbleiterkonzerns STMicroelectronics in Rousset. Der Standort fertigt integrierte Schaltkreise und Halbleiterbauelemente für Automobil-, Industrie- und Konsumelektronik.

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