Mischmetall-Silicium-Oxid-Barrieren

EP2922979 Art B1 28. Oktober 2020

Anmelder: Lotus Applied Technology, LLC, Toppan Printing Co., Ltd. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2922979
Aktenzeichen
EP14757288
Anmeldetag
26. Februar 2014
Veröffentlichung
28. Oktober 2020
Erteilung
28. Oktober 2020
Rechtsraum
EP
IPC
C23C16/00C23C16/44C23C16/455C23C16/40H01L23/29H01L23/00H01L51/52
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Lotus Applied Technology, LLC
Toppan Printing Co., Ltd.
Land
🇺🇸 USA
🇯🇵 Toppan Printing

Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.

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