Lithografievorrichtung, Substrathaltesystem, Vorrichtungsherstellungsverfahren und Steuerungsprogramm
EP2926198
Art A1
7. Oktober 2015
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2926198
- Aktenzeichen
- EP13795747
- Anmeldetag
- 25. November 2013
- Veröffentlichung
- 7. Oktober 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
van de Ven, Jan-Piet
Eindhoven, Niederlande
19
Patente gesamt
9
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte