Verfahren zur Reduzierung der Defekte in Grabenisolation
EP2933829
Art B1
14. August 2019
Anmelder: NXP B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2933829
- Aktenzeichen
- EP15163578
- Anmeldetag
- 14. April 2015
- Veröffentlichung
- 14. August 2019
- Erteilung
- 14. August 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/762H01L21/306H01L21/3065H01L21/764
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NXP B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
NXP Semiconductors
Niederländischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Eindhoven. Entwickelt Chips und Halbleiterlösungen für Automobiltechnik, Kommunikation, Sicherheit sowie industrielle Anwendungen.
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Fachgebiete
Weitere Vertreter
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Terblanche, Candice Jane
NoneRedhill