Plasmagestützte Cvd-Quelle

EP2938752 Art A1 4. November 2015

Anmelder: Sputtering Components, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2938752
Aktenzeichen: EP13867574
Anmeldetag: 23. Dezember 2013
Veröffentlichung: 4. November 2015
Rechtsraum: EP
IPC: C23C16/50C23C16/513H01J37/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sputtering Components, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von

Topley, Paul London, Großbritannien

14

Patente gesamt

15

Fachgebiete

5

Anmelder-Länder

Schwerpunkte

Software & Datenverarbeitung Verfahrens- & Trenntechnik Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen) Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Akustik, Musik & Datenspeicherung Elektrische Energietechnik

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