Abbildungsverfahren auf Substraten mit Wässrigen Alkalilöslichen Uv-Blockierenden Zusammensetzungen und Wasserlöslichen Uv-Transparenten Filmen
Anmelder: Rohm and Haas Electronic Materials LLC 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2950144
- Aktenzeichen
- EP15169451
- Anmeldetag
- 27. Mai 2015
- Veröffentlichung
- 14. Dezember 2016
- Erteilung
- 14. Dezember 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05K3/00H05K3/28G03F7/09G03F7/035G03F7/038G03F7/11G03F7/20H05K3/34
Abstract
Substrates, such as printed circuit boards, are coated with an aqueous alkaline developable UV photosensitive material followed by applying an aqueous soluble UV transparent film to coat the UV photosensitive material. An aqueous alkaline soluble UV blocking composition is selectively applied to the surface of the UV blocking film to function as a mask. UV light is applied to portions of the UV photosensitive material not covered by the mask. The UV blocking composition, UV transparent film and selective sections of the UV photosensitive material are simultaneously removed with an aqueous alkaline developer solution to form an image on the substrate.
Anmelder
- Firma
- Rohm and Haas Electronic Materials LLC
- Land
- 🇺🇸 USA
Ehemaliger US-amerikanischer Spezialchemiekonzern mit Sitz in Philadelphia, unter anderem für Kunststoffe, Beschichtungen und Elektronikchemikalien bekannt. Wurde 2009 von Dow Chemical übernommen.
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Fachgebiete
Sitz im englischen Bakewell in Derbyshire, Kanzlei aus UK Chartered und European Patent Attorneys mit eigener Industrieerfahrung. Spezialisiert auf europäische Patentanmeldung sowie Einspruchs- und Beschwerdeverfahren für US-amerikanische und europäische Firmenkunden.
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Hoggins, Mark Andrew
NoneBakewell