Chemisch Erweiterte Positive Resistzusammensetzung und Musterungsverfahren

EP2955576 Art B1 22. Juli 2020

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2955576
Aktenzeichen: EP15170386
Anmeldetag: 3. Juni 2015
Veröffentlichung: 22. Juli 2020
Erteilung: 22. Juli 2020
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

4.655 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von