Verbindung, Material zur Formung eines Unterschichtfilms zur Lithografie, Unterschichtfilm zur Lithografie und Strukturformungsverfahren
EP2955577
Art B1
31. Januar 2018
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2955577
- Aktenzeichen
- EP14749602
- Anmeldetag
- 4. Februar 2014
- Veröffentlichung
- 31. Januar 2018
- Erteilung
- 31. Januar 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/11C07D493/04H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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