Zusammensetzung zur Herstellung eines Feinen Resistmusters und Strukturbildungsverfahren unter Verwendung der Zusammensetzung
EP2975462
Art B1
9. Dezember 2020
Anmelder: Merck Patent GmbH, AZ Electronic Materials (Luxembourg) S.à.r.l. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2975462
- Aktenzeichen
- EP14759706
- Anmeldetag
- 14. März 2014
- Veröffentlichung
- 9. Dezember 2020
- Erteilung
- 9. Dezember 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/40G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Merck Patent GmbH
AZ Electronic Materials (Luxembourg) S.à.r.l. - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Merck KGaA
Deutsches Pharma- und Chemieunternehmen mit Sitz in Darmstadt. Aktiv in Biopharmazeutika, Life-Science-Technologien sowie elektronischen Materialien für Halbleiter- und Displayindustrie. Nicht zu verwechseln mit dem US-Unternehmen Merck & Co.
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Mannheimer Patentanwaltskanzlei mit fachlich-wissenschaftlichem Team in Chemie, Verfahrenstechnik, Polymeren und Kunststofftechnik, Biotech, Pharma und Life Sciences, Mechanik und Optik sowie Elektrotechnik, Digital und KI.
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