Substrattestvorrichtung und Substrattemperatureinstellverfahren

EP2980837 Art A1 3. Februar 2016

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2980837
Aktenzeichen
EP14773832
Anmeldetag
18. März 2014
Veröffentlichung
3. Februar 2016
Rechtsraum
EP
IPC
G01R31/28H01L21/66H01L21/683
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Tokyo Electron Limited
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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