Kombination aus Schnittmaskenlithografie und Konventioneller Lithografie zur Erzielung Niederschwelliger Strukturmerkmale

EP2987034 Art B1 29. März 2017

Anmelder: QUALCOMM INCORPORATED, Qualcomm Incorporated 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2987034
Aktenzeichen
EP14727110
Anmeldetag
11. April 2014
Veröffentlichung
29. März 2017
Erteilung
29. März 2017
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20H01L27/00H01L21/768H01L21/28H01L21/283H01L21/31H01L21/469H01L23/50H01L23/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
QUALCOMM INCORPORATED
Qualcomm Incorporated
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Qualcomm

US-amerikanisches Halbleiter- und Technologieunternehmen mit Sitz in San Diego. Qualcomm entwickelt Chipsätze und drahtlose Kommunikationstechnologien für Mobiltelefone, Netzwerke, Automobile und vernetzte Geräte.

20.973 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen