Resistzusammensetzung und Strukturierungsverfahren
EP2993520
Art B1
8. März 2017
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2993520
- Aktenzeichen
- EP15182686
- Anmeldetag
- 27. August 2015
- Veröffentlichung
- 8. März 2017
- Erteilung
- 8. März 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004G03F7/039G03F7/32
Abstract
A resist composition comprising a polymer comprising recurring units of lactone and a PAG is provided. The resist composition has a high dissolution contrast during organic solvent development, and improved resist properties including MEF and CDU and forms a fine hole pattern with improved roundness and size control.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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