Verfahren zur Ablagerung Dicker Kupferschichten auf Gesinterte Materialien

EP2997180 Art B1 3. Juli 2019

Anmelder: MKS IP Association, Atotech Deutschland GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2997180
Aktenzeichen
EP14723768
Anmeldetag
9. Mai 2014
Veröffentlichung
3. Juli 2019
Erteilung
3. Juli 2019
Rechtsraum
EP
IPC
C25D5/10C25D5/54H05K3/24C25D3/38
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
MKS IP Association
Atotech Deutschland GmbH
Land
🇩🇪 Deutschland

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
Vertreten von
Wonnemann, Jörg Berlin, Deutschland
124
Patente gesamt
10
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Anorganische Chemie & Werkstoffe Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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