Vorrichtungen mit einem Ferroelektrischen Feldeffekttransistor-Speicherarray und Zugehöriges Verfahren
EP2997602
Art A1
23. März 2016
Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2997602
- Aktenzeichen
- EP14798136
- Anmeldetag
- 15. Mai 2014
- Veröffentlichung
- 23. März 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/78G11C11/22H01L27/11597
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Micron Technology, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Micron Technology
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.
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