Oxid- und Nitridselektive Cmp-Zusammensetzungen mit Hoher Beseitigungsrate und Geringer Empfindlichkeit

EP2999762 Art B1 28. November 2018

Anmelder: Cabot Microelectronics Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2999762
Aktenzeichen
EP14800565
Anmeldetag
8. Mai 2014
Veröffentlichung
28. November 2018
Erteilung
28. November 2018
Rechtsraum
EP
IPC
C09K3/14C09K11/06H01L21/304C09G1/02
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Cabot Microelectronics Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Cabot Microelectronics

Cabot Microelectronics war ein US-amerikanischer Hersteller von Polierchemikalien für die Halbleiterfertigung und ist heute Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben, Klebstoffe und Brennstoffe sowie Halbleiterbauelemente, mit Bezug zur Werkzeug- und Fertigungstechnik. Die Anmeldungen bis 2019 betreffen unter anderem CMP-Zusammensetzungen für die Chip-Planarisierung.

290 Patente in unserer Datenbank

Weitere Vertreter

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen