Verfahren zur Herstellung eines Integrierten Silicium- und Iii-N-Halbleiterbauelements
EP3008751
Art B1
6. Juli 2022
Anmelder: Texas Instruments Incorporated 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3008751
- Aktenzeichen
- EP14791900
- Anmeldetag
- 5. Mai 2014
- Veröffentlichung
- 6. Juli 2022
- Erteilung
- 6. Juli 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/8258H01L21/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Texas Instruments Incorporated
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Texas Instruments
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Dallas (Texas). Entwickelt und fertigt analoge und eingebettete Halbleiterprodukte, Prozessoren sowie Schaltkreise für Industrie, Automobil- und Konsumelektronik.
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Fachgebiete
Weitere Vertreter
-
Wojcik, Lucy Eleanor
NoneFarnborough