Lithografisches Verfahren und System

EP3011645 Art B1 13. März 2019

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3011645
Aktenzeichen
EP14732153
Anmeldetag
17. Juni 2014
Veröffentlichung
13. März 2019
Erteilung
13. März 2019
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20G01J1/26G01J1/42H01S3/09H05H7/04G01J1/04G02B26/02G02B1/06G02B5/20G21K1/10H01S3/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik Elektrische Energietechnik Nachrichtentechnik & Telekommunikation Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Zum Anwaltsprofil
Weitere Vertreter

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen