Sputtertarget und Verfahren zur Herstellung einer Dünnschicht unter Verwendung des Targets
EP3015565
Art A1
4. Mai 2016
Anmelder: AGC Inc., Asahi Glass Company, Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3015565
- Aktenzeichen
- EP14818106
- Anmeldetag
- 2. Juni 2014
- Veröffentlichung
- 4. Mai 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C04B35/44C04B35/626C23C14/34C23C14/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- AGC Inc.
Asahi Glass Company, Limited - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
AGC (Asahi Glass)
Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.
2.222 Patente in unserer Datenbank