Schrumpfmaterial und Musterbildungsverfahren
EP3032333
Art B1
24. Mai 2017
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3032333
- Aktenzeichen
- EP15197580
- Anmeldetag
- 2. Dezember 2015
- Veröffentlichung
- 24. Mai 2017
- Erteilung
- 24. Mai 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/40G03F7/004G03F7/039G03F7/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Vertreten von
Merkle, Gebhard
München, Deutschland
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Ter Meer Steinmeister & Partner
Ter Meer Steinmeister & Partner · München