Fotomaskenrohling, Resiststrukturbildungsverfahren und Verfahren zur Herstellung einer Fotomaske
EP3040776
Art B1
3. Januar 2018
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3040776
- Aktenzeichen
- EP15194538
- Anmeldetag
- 13. November 2015
- Veröffentlichung
- 3. Januar 2018
- Erteilung
- 3. Januar 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/80G03F7/004G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Merkle, Gebhard
München, Deutschland
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Ter Meer Steinmeister & Partner
Ter Meer Steinmeister & Partner · München