Zusammensetzung zur Bildung einer N-Leitenden Diffusionsschicht, Verfahren zur Bildung einer N-Leitenden Diffusionsschicht, Verfahren zur Herstellung eines Halbleitersubstrats mit einer N-Leitenden Diffusionsschicht und Verfahren zur Herstellung eines Solarzellenelements
EP3041030
Art A1
6. Juli 2016
Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3041030
- Aktenzeichen
- EP14839637
- Anmeldetag
- 20. August 2014
- Veröffentlichung
- 6. Juli 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/225H01L31/068
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi Chemical Company, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi Chemical
Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München