Verfahren zur Herstellung Abgelagerter Muster auf einer Oberfläche
EP3041784
Art B1
19. Februar 2020
Anmelder: Raytheon Company 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3041784
- Aktenzeichen
- EP14824962
- Anmeldetag
- 25. November 2014
- Veröffentlichung
- 19. Februar 2020
- Erteilung
- 19. Februar 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B81C1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Raytheon Company
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Raytheon Company
US-amerikanisches Rüstungs- und Technologieunternehmen mit Sitz in Massachusetts, heute Teil von RTX Corporation. Entwickelt Verteidigungssysteme, Radartechnik, Flugabwehr, Sensorik und Luftfahrtelektronik.
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