Tragetisch für eine Lithografische Vorrichtung, Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP3049869
Art B1
8. November 2017
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3049869
- Aktenzeichen
- EP14758149
- Anmeldetag
- 2. September 2014
- Veröffentlichung
- 8. November 2017
- Erteilung
- 8. November 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Dung, Shiang-Lung
Veldhoven, Niederlande
20
Patente gesamt
6
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1
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Schwerpunkte