Strahlenverteilungsvorrichtung Lithographisches System und Verfahren

EP3049870 Art B1 15. Mai 2019

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3049870
Aktenzeichen
EP14777038
Anmeldetag
24. September 2014
Veröffentlichung
15. Mai 2019
Erteilung
15. Mai 2019
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20G03F1/84G02B27/00G02B5/18G02B27/10G02B27/12G02B27/14G02B27/42H01S3/09H05H7/04G01N21/956G02B27/09G21K1/06
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik Elektrische Energietechnik Nachrichtentechnik & Telekommunikation Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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